电镀金始于1838年英国人发明的氰化物镀金,主要用于装饰。20世纪40年代电子工业发展,金价暴涨,大都采用镀薄金。为了进一步节约金,20世纪60年代出现了刷镀金(即选择性镀金),20世纪80年代出现了脉冲镀金和镭射镀金。1950年发现氰化金钾在有机酸存在下的稳定性,进而出现了中性和弱酸性镀金液;20世纪60年代后期无氰镀金也得到了应用,尤其是以亚硫酸盐镀金应用广。
pH值。pH值影响镀液中配合物的形成,影响外观和 硬度。应按碱性、中性及酸性镀液的要求,严格控制pH值。pH 值过高或过低,得到的镀层外观都不理想,硬度也会下降。 温度。温度影响电流密度范围和镀层外观,对镀液导 电性影响不大。升高温度可提高阴极电流密度范围。但温度过 高,会使镀层粗糙、发红甚至发暗发黑。温度过低,使阴极电流 密度范围缩小,镀层易发脆。 阴极电流密度。一般采用较低的阴极电流密度。当电 流过高时,阴量析氢,电流效率低。
氰化金钾溶液的制备。将雷酸金沉淀连同滤纸一起倒入30%~40%的氰化钾溶液 中,缓慢加热溶解,得到无色透明的金氰化钾溶液。1g需 氰化钾1.2~1.5g。镀液的配制。将金氰化钾溶液和其他成分溶于蒸馏水中,搅匀,并调好 pH值,即可施镀。镍氰化钾的制备。把25g硫酸镍溶于50mL水中,加入25g氰化钾,产生白色 沉淀。加入100mL无水乙醇,将硫酸钾充分沉淀出来,过滤。 用乙醇洗2~3次。将黄色滤液放在蒸发皿中,蒸发至出现黄色 结晶。在100~110℃下烘干备用。配制1g镍氰化钾,约需0.97g硫酸镍和0.8~1.0g氰化钾。
金镀层主要镀在镍镀层上,镍镀层(低应力镍、半光亮镍、光亮镍、化学镍)3~8.9μm,作为金和铜、铁之间的阻挡层,主要作用是防止金与铜、铁之间相互扩散。底镀层的亮度和整平情况对改善薄金层亮度有明显作用。金也可镀在铜、黄铜等基体上,但长期使用后铜会扩散到金镀层,失去金镀层的作用。对钢、铜、银及其合金基体而言,金镀层为阴极性镀层。
金镀层为阴极性镀层。镀层的孔隙影响其防护性能。根据预镀零件基体材料的不同,镀金工艺过程也稍有差异。在铜和铜合金上需要镀上→层光亮镍→闪镀金→镀金;在铁及铁合金基体上需要镀氰化铜→光亮镀镍→闪镀金→镀金或镀暗镍→光亮镀镍→闪镀金→镀金;在不锈钢上镀金需要进行活化处理,迅速水洗后再闪镀金;对于镍或高镍合金上镀金需要用闪镀镍后迅速水洗再闪镀金。闪镀金的目的是使镀金与基体的结合良好,常采用酸性溶液,用蒸馏水清洗后再镀金。闪镀金对厚度超过5μm的镀金层尤为重要。镀金后应用纯水或热纯水清洗,以消除镀层表面 的残余盐类,保持镀层的持久光泽。
说电镀金层的发黑问题,怎么会说到电镀镍层的厚度上了。其实PCB电镀金层一般都很薄,反映在电镀金的表面问题有很多是由于电镀镍的表现不良而引起的。一般电镀镍层偏薄会引起产品外观会有发白和发黑的现象。因此这是工厂工程技术人员要检查的项目。一般需要电镀到5UM左右的镍层厚度才足够。
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更新时间:2024-03-02 01:16:34