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无氰电镀金– 钴合金1979 年桑德斯托姆(Sandstorm)和沃斯顿(Waston)测定了电镀金–钴合金的阴极极化曲线,并讨论了溶液中金离子和钴离子浓度、镀液 pH、电流密度、搅拌等因素对阴极效率和镀层中钴含量的影响。金和钴的共沉积能够明显提高金镀层的硬度,电镀镀层的显微硬度大约为 70 HV,而采用金–钴电镀液得到的金合金镀层的显微硬度可达到 130 HV。金–钴合金镀层主要用于集成电路电接点、印刷电路板等耐磨件。已投产的或在研制中的无氰电镀金–钴合金镀液有以下一些类型:卤化物镀液、硫代硫酸盐镀液、硫代苹果酸盐镀液、亚硫酸盐镀液、焦磷酸盐镀液等 。
镀液组成和工艺条件
碱性氰化物镀金液分散能力好,镀液稳定,便于操作和维 护,氰化镀金的镀层孔隙率较高,耐磨及抗蚀性较差。由于镀液 含氰量较高,近年来使用量已大幅减少,并且多数用于装饰性薄金。碱性氰化物镀金液由于碱性较大,不宜用于印刷电路版电镀。镀液中各组分的作用
氰化金钾。是镀液中的主盐,是镀层中金的来源。金含量太低,镀层发红,粗糙。氰化金钾要先溶于去离子水中,再 加入镀液。
氰化钾 (氰化钠)。配合剂,适量游离氰化钾的存在, 能使镀液稳定,镀层结晶细致,金阳极正常溶解。含量过低,镀液不稳定,镀层粗糙,色泽不好。
溶液的配制
(1) 氯化金的制备。
将(纯度99.98%) 切碎,洗净烘干,在通风良好、水 浴加热的条件下,用王水溶解金(1g需浓硝酸2.7mL和浓 盐酸8mL)。然后不断搅拌,加热浓缩(不得超过100℃,以免 生成不溶于水的一价金化合物) 以除去二氧化氮,直至得到红 色的浓稠物(三氯化金),冷却备用。
用五倍体积的蒸馏水溶解三氯化金。然后在不断搅拌下缓慢 加入氨水(1g需浓氨水10mL),生成淡黄色的沉淀 (雷酸 金)。不断搅拌、蒸发除氨,至无氨味为止 (除氨时要不断加 水,以防沉淀干燥)。过滤。用热水冲洗3~4次。雷酸金制备 过程中要防止干燥,制得后要尽快使用,以防爆炸。
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